Mentor Graphics工具完全启用英特尔的14nm工艺

Mentor Graphics Corp.? 与英特尔公司今天宣布，Mentor 的电路模拟和验收工具已经完全启用英特尔面向 Intel Custom Foundry 客户的 14nm三栅极工艺技术。Mentor? 和 Intel Custom Foundry 将为电路模拟、设计规则检查 (DRC) 与布局对面向移动和云基础架构应用的电路结构检查 (LVS) 提供模型和设计规则。现有的合作使全芯片 Calibre? DRC?验证运行时间加速了2倍。在 Intel Custom Foundry 14nm设计平台上准备 Mentor 的基准电路模拟和验收工具使客户能够使用英特尔的 14nm 技术和 Mentor 的模拟与验证工具。

Intel Custom Foundry 已经创造了14nm和22nm的英特尔三栅极工艺技术设计平台。英特尔的14nm工艺技术采用第二代3-D三栅极晶体管。这些三栅极晶体管让芯片具有更低的电压和更低的电流泄露，与平面晶体管相比，提供了前所未有的性能与节能改善。该平台的功能使芯片设计人员能够根据不同应用灵活地选择能够产生低功耗或者高性能的晶体管。

Intel Custom Foundry 的 Foundry Design Kit Enablement 高级总监 Venkat Immaneni 表示：“我们很高兴与 Mentor Graphics 合作，确保全套模拟与验证解决方案的准备工作顺利进行，并且对我们的 14nm 工艺进行优化。这意味着我们共同的客户可以使用和适应他们的工具，同时利用英特尔的工艺领导地位。”

用于纳米模拟、混合信号和射频验证的 Analog FastSPICE 电路模拟器提供了获得代工厂认证的 SPICE 准确度和行业领先的性能、容量和设备噪音分析。Calibre nmDRC? 和 Calibre nmLVS? 平台帮助团队优化他们的设计来满足工艺需求，提供行业领先的周期时间与物理验证准确性。客户如今能够在 Intel Custom Foundry 设计平台的设计中应用这些与众不同的功能。

Mentor Graphics Calibre 设计解决方案高级营销总监 Michael Buehler-Garcia 表示：“我们很高兴正式宣布我们与 Intel Custom Foundry 的合作关系。我们的目标是为无晶圆半导体公司提供完全优化他们设计的能力，从而利用英特尔的14nm工艺提供的所有功能。”